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ASML新一代EUV光刻機每臺耗電約1百萬(wàn)瓦 約為前幾代設備的10倍

發(fā)布時(shí)間:2022-08-27 10:02:15來(lái)源:網(wǎng)易科技

  ASML 新一代 EUV 光刻機每臺耗電約 1 百萬(wàn)瓦,約為前幾代設備的 10 倍,依賴(lài)該設備生產(chǎn)芯片的三星、臺積電等芯片制造大廠(chǎng)能源消耗巨大,芯片行業(yè)可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。

  報道稱(chēng),臺積電擁有業(yè)界最多的 80 臺 EUV 設備,而且正在安裝新一代設備,是吃電大戶(hù),預計 2025 年將占中國臺灣省整體能源消耗的 12.5%,較 2020 年的 6% 高一倍還多。除了臺積電外,美光在中國臺灣也使用至少一種 EUV 設備。彭博分析師 Charles Shum 預估,在 3 年內,臺灣代工廠(chǎng)四分之一的芯片制造都需要 EUV 設備。

  IT 之家了解到,臺積電生產(chǎn)對于環(huán)境的影響程度,主要取決于發(fā)電來(lái)源。業(yè)內人士指出,中國臺灣有許多需要運行如此高耗能設備的芯片廠(chǎng),使得可再生能源變得重要和緊迫,但臺灣卻嚴重依賴(lài)化石燃料。據報道,中國臺灣 2016 年制定一個(gè)目標,到了 2025 年,其中 20% 電力來(lái)自可再生能源。然而,從 7 月的最新能源審查顯示,截至 2021 年底,只有 6% 電力來(lái)自可再生能源,促使其下調 2025 年的目標至 15%。

  整體來(lái)說(shuō),雖然有機會(huì )找到用更環(huán)保的方式制造芯片,但沒(méi)有任何廠(chǎng)商愿意放慢腳步。
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