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高性能大面積碳化硼薄膜在中國散裂中子源研制成功

發(fā)布時(shí)間:2023-10-19 09:29:03來(lái)源:科技日報

  從中國散裂中子源(CSNS)獲悉,CSNS探測器團隊利用自主研制的磁控濺射大面積鍍硼專(zhuān)用裝置,近日成功制備出滿(mǎn)足中子探測器需求的高性能大面積碳化硼薄膜樣品,單片面積達到1500毫米×500毫米,薄膜厚度1微米,全尺寸范圍內厚度均勻性?xún)?yōu)于±1.32%,是目前國際上用于中子探測的最大面積的碳化硼薄膜。

  基于硼轉換的中子探測器因其優(yōu)異的性能已成為當前國際上研究的熱點(diǎn),隨著(zhù)CSNS二期工程即將啟動(dòng),擬建的中子譜儀對大面積、高效率、位置靈敏的新型中子探測器需求緊迫。如何制備出高性能中子轉換碳化硼薄膜是其中最核心的技術(shù),目前也只有美國、歐洲等少數幾個(gè)發(fā)達國家掌握了該項技術(shù)。2016年,在核探測與核電子學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗室的支持下,CSNS探測器團隊與同濟大學(xué)朱京濤教授合作,開(kāi)始研制一臺磁控濺射大面積鍍硼專(zhuān)用裝置,鍍膜厚度范圍為0.01—5微米,同時(shí)支持單、雙面鍍膜,支持射頻和直流鍍膜。2021年6月,該裝置通過(guò)驗收并投入使用。

  據了解,經(jīng)過(guò)多年的技術(shù)攻關(guān)和工藝試制,團隊利用該裝置制備了多種規格的碳化硼薄膜,并成功應用于CSNS多臺中子譜儀上的陶瓷GEM中子探測器,實(shí)現了中子探測器關(guān)鍵技術(shù)和器件的國產(chǎn)化,為接下來(lái)研制更大面積的高性能新型中子探測器提供了強有力的技術(shù)支撐。

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